首頁
P

產品中心

Product Center

靜電吸附

靜電吸附技術在泛半導體、光學等領域中有著廣泛應用。靜電卡盤(E-CHUCK)是一種適用于真空及等離子體工況環境的超潔凈晶圓片承載體,它利用靜電吸附原理進行超薄晶圓片的平整均勻夾持,是PVD、ETCH、離子注入等高端裝備的核心部件。
  • 產品介紹
  • 產品特性
  • 技術參數
  • 圖片參考
    ? ? ? ?靜電吸附技術在泛半導體、光學等領域中有著廣泛應用。靜電卡盤(E-CHUCK)是一種適用于真空及等離子體工況環境的超潔凈晶圓片承載體,它利用靜電吸附原理進行超薄晶圓片的平整均勻夾持,是PVD、ETCH、離子注入等高端裝備的核心部件。
    ? ? ? ?庫倫型靜電吸盤與晶片接觸的表面之介電層為高阻抗陶瓷材料。陶瓷層中夾有一層導電電極層,當電極被接通到高壓直流電源后,介電質的表面會產生極化電荷,分布在晶片背面的電荷與分布在吸盤上面的電荷極性相反,晶片即會被吸盤吸住。


    ? ? ? 當靜電吸盤使用的介電層材料為半導體材料時,稱為Johnsen-Rahbek 靜電吸盤(JR ESC)。其介電質表面不僅有極化電荷,還有很大部分自由電荷,這是因為JR吸盤的介電質有一定導電性。一般來說,JR吸盤的吸力比庫倫型的大。